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绿碳化硅用于制造和加工半导体晶圆
发布时间:2024-10-09作者:15738804601 浏览次数:
绿碳化硅微粉在半导体行业中的重要性体现在其作为关键的研磨和抛光材料,用于制造和加工半导体晶圆。

绿碳化硅微粉的莫氏硬度达到9.5左右,在磨料中表现出色。这一高硬度使得它成为加工硬质合金、玻璃、陶瓷和非金属材料的理想选择。特别是在半导体行业,绿碳化硅微粉被广泛用于研磨和抛光硅片,这是制造半导体器件的关键步骤。
由于其优异的物理和化学性质,绿碳化硅微粉能够提供高效率和高质量的加工效果,确保半导体晶圆的平整度和光滑度,这对于提高电子设备的性能至关重要


绿碳化硅微粉的性能:

1、绿碳化硅微粉质量稳定,结芯片好,外表清洁度高,无大颗粒,细粒含量少,粒度散布集中,研磨效率高;

2、绿碳化硅微粉与聚乙二醇等切削液有很好的实配性,表面经过特殊处理,具备大的比表面积和清洁的外表;

3、高纯度、大结晶的碳化硅原材料,粒度分布集中并且均匀,保证了碳化硅切割微粉的优良切割性能和稳定的物理状态;

4、较高的热震稳定性和荷重软化温度,使荷重切割时保证了小的线膨胀系数,从而保证切割的稳定性,与切割机具有较高的适配性。

绿硅微粉的粒度分布:

粒度 D0(um) D3(um) D50(um) D94(um)
#240 127以下 103以下 57.0±3.0 40以上
#280 112以下 87以下 48.0±3.0 33以上
#320 98以下 74以下 40.0±2.5 27以上
#360 86以下 66以下 35.0±2.0 23以上
#400 75以下 58以下 30.0±2.0 20以上
#500 63以下 50以下 25.0±2.0 16以上
#600 53以下 41以下 20.0±1.5 13以上
#700 45以下 37以下 17.0±1.5 11以上
#800 38以下 31以下 14.0±1.0 9.0以上
#1000 32以下 27以下 11.5.±1.0 7.0以上
#1200 27以下 23以下 9.5±0.8 5.5以上
#1500 23以下 20以下 8.0±0.6 4.5以上
#2000 19以下 17以下 6.7±0.6 4.0以上
#2500 16以下 14以下 5.5±0.5 3.0以上
#3000 13以下 11以下 4.0±0.5 2.0以上
#4000 11以下 8.0以下 3.0±0.4 1.8以上
#6000 8.0以下 5.0以下 2.0±0.4 0.8以上
#8000 6.0以下 3.5以下 1.2±0.3 0.6以上

 

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